鍍鉻工藝簡介與主要特點

　　鉻鍍層是一種相對原子質(zhì)量為51.99，密度為6.98~7.21g/cm~(-3)的微帶銀白色金屬。電鍍廠電鍍時，鍍層金屬或其他不溶性材料做陽極，待鍍的工件做陰極，鍍層金屬的陽離子在待鍍工件表面被還原形成鍍層。為排除其它陽離子的干擾，且使鍍層均勻、牢固，需用含鍍層金屬陽離子的溶液做電鍍液，以保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。熔點為1875~1920℃，標(biāo)準(zhǔn)電極電位為Yushi/cv-0.74V，舊的“/c”-0.41V和Pe+/Cr震顫-1.33V，金屬鉻易在空氣中鈍化，表面形成一層薄鈍化膜。從而顯示出貴金屬的特性。

　　鉻涂層硬度很高，可根據(jù)鍍液組成和工藝條件在400~1200HV范圍內(nèi)變化。鍍鉻層具有良好的耐熱性，當(dāng)加熱到500℃以下時，其光澤度和硬度無明顯變化。溫度超過500℃，硬度開始下降。鍍鉻層的摩擦學(xué)分?jǐn)?shù)，尤其是干摩擦系數(shù)是所有金屬中最低的。因此，鉻涂層具有良好的耐磨性。

　　鉻涂層具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性，在堿性、硫化物、硝酸和大多數(shù)有機酸中不起作用，但可溶于鹽酸(如鹽酸)和熱硫酸中。電鍍廠電鍍就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化，提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性、抗腐蝕性及增進美觀等作用。不少硬幣的外層亦為電鍍。

　　在可見光范圍內(nèi)，鉻的反射率約為65，在銀(88%)和鎳(55%)之間，由于鉻不變色，可長期保持其反射能力，且在使用時優(yōu)于銀和鎳。

　　鍍鉻液的主要特點：1鍍鉻液的主要成分不是金屬鉻酸鹽，而是鉻酸，屬于強酸性鍍液。在電鍍工藝中，陰極過程復(fù)雜，陰極電流主要消耗在析氫和六價鉻還原為三價鉻的雙副反應(yīng)中，因此鍍鉻的陰極電流效率很低(101.8%)。電流效率隨鉻酸酐濃度的增加而降低，隨溫度的升高而降低，隨電流密度的增加而增大。為了實現(xiàn)鉻的正常沉積，必須在鍍鉻液中加入一定量的陰離子，如SO42-、SiF62I和F。

　　鍍鉻液的分散性很低。對于形狀復(fù)雜的零件，必須使用象形文字陽極或輔助陰極來獲得均勻的鍍鉻層。對懸掛設(shè)備的要求也更加嚴(yán)格。

　　鍍鉻要求陰極電流密度高，通常在20A/dm2以上，比普通鍍種高10倍以上。由于陰極和陽極釋放的氣體量大，鍍液電阻增大，鍍液電壓增大。電鍍電源要求大于1V，而其它電鍍品種則需要使用小于8V的電源。

　　電鍍鉻的陽極不使用金屬鉻，而使用不溶性陽極。鉛、鉛銻和鉛錫合金是常用的.鍍液中由于沉積或其他原因而消耗的鉻應(yīng)通過添加鉻酸酐來補充。

　　鉻鍍層的工作溫度和陰極電流密度有一定的依賴性，通過改變它們之間的關(guān)系可以得到不同性能的鉻鍍層。